清华大学学报(自然科学版)

北大核心,CA,INSPEC,JST,EI

国内刊号:11-2223/N

国际刊号:1000-0054

清华大学学报(自然科学版)杂志2020年第3期:下料方式和流量分配对D4合成SiO2的影响

发布日期:

作者:张寒, 黄泽宇, 张国君, 欧阳葆华, 吴学民, 郑丽丽

单位:1. 湖北菲利华石英玻璃股份有限公司, 荆州 434000;<br>2. 清华大学 航天航空学院, 北京 100084

关键词:化学气相沉积,反应流数值模拟,SiO2疏松体

基金:国家重点研发计划项目(2016YFB0303802,2016YFB0303801)

燃烧器设计和流量控制对燃烧稳定性、SiO2生成、疏松体品质和关键组分分布有重要影响。该文通过对八甲基环四硅氧烷(OMCTS,D4)制备SiO2疏松体过程的数值研究,分析了不同下料方式,以及D4和氧气流量分配对SiO2生成效率和沉积面上关键组分分布的影响。结果表明:采用多点下料方式可以明显提高SiO2生成率和沉积均匀性;内外D4进口流速接近时,SiO2生成率较高,并且OH浓度有所降低;根据D4质量流量分配对氧气进口流量分配进行调整,能够提高SiO2生成率,但相应的OH浓度也有所增加;但在保持D4质量流量不变的情况下,采用多点下料,导致D4进口速度降低,一定程度上降低了沉积效率。采用多点下料时,可以考虑适当提高D4流量,控制火焰温度,有利于提高SiO2生成和沉积效率。

来源:2020年第3期

《清华大学学报(自然科学版)》期刊编辑部

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